Sistemi ACQUITY UPLC con Tecnologia 2D LC

Numero di solventi

Fino a quattro, in qualsiasi combinazione di due: A1 o A2 e B1 o B2

Stoccaggio dei solventi

Il vassoio porta-eluenti ha una capacità massima di quattro solventi per cromatografia, un solvente di lavaggio per il sistema di gestione campioni e un solvente di lavaggio delle guarnizioni per il sistema binario di gestione degli eluenti

Condizionamento dei solventi

Degassamento sotto vuoto integrato, sei linee con due assegnate per i solventi di lavaggio/spurgo dell’ago dell’iniettore

Formazione del gradiente

Miscelazione ad alta pressione, gradiente binario

Profili del gradiente

11 curve di gradiente incluse retta, curve a gradini (2), concave (4) e convesse (4)

Intervallo della velocità di flusso operativa

Da 0,001 a 2,000 mL/min con incrementi pari a 0,001 mL (firmware v1.71 e versioni successive)

Pressione di esercizio massima

Da 18 000 psi a 1 mL/min, da 12 000 psi a 2 mL/min

Valvole di controllo primarie

Valvole di Aspirazione Intelligente (i² Valve)

Accuratezza del flusso†

±1,0% della velocità di flusso impostata a 0,500 mL/min, come da SystemsQT

Precisione del flusso†

≤0,075% RSD o SD 0,01 min (da 0,2 a 2,0 mL/min), a seconda del maggiore dei due valori utilizzando solvente pre-miscelato

Variazione della composizione† (rumore di fondo)

≤1,0 mAu

Precisione della composizione†

≤0.15% RSD o SD 0,01 min, a seconda del maggiore dei due valori

Accuratezza della composizione†

±0,5% assoluta da 5% a 95%, da 0,2 a 2,0 mL/min

Pulsazione di pressione

<0,4% o <25 psi, a seconda del maggiore dei due valori

Compensazione della comprimibilità

Automatica, non è richiesto alcun intervento da parte dell’utilizzatore

Priming

Priming bagnato con velocità di flusso pari a 4 mL/min

Volume effettivo di ritardo del sistema

<140 μL, indipendentemente dalla contro-pressione del sistema (con miscelatore da 50 μL installato)

Lavaggio delle guarnizioni della pompa

Sistema di lavaggio attivo programmabile in dotazione per eseguire il lavaggio della parte posteriore delle guarnizioni ad alta pressione e degli stantuffi

Rampa del flusso

Automatica

Materiali primari a contatto con i liquidi

Acciaio inossidabile 316L, miscela UHMWPE, MP35N, lega di titanio, oro, zaffiro, rubino, zirconia, Nitronic 60, DLC, fluoropolimero, PEEK e miscela PEEK

Opzioni di miscelazione

Standard: 50 μL

Opzionale: 100 μL e 380 μL

Numero di solventi

Da uno a quattro, in qualsiasi combinazione come dotazione standard.

Scelta ampliata del solvente con la valvola di selezione del solvente a sei vie opzionale

Pressione di esercizio massima

Da 15 000 psi a 1,0 mL/min, da 9000 psi a 2,0 mL/min (firmware v1.5x e versioni precedenti)

Da 15 000 psi a 1,0 mL/min, da 7800 psi a 2,2 mL/min (firmware v1.6x e versioni successive)

Condizionamento dei solventi

Degassamento sotto vuoto integrato, quattro camere.

Un’ulteriore camera per il solvente di spurgo del sistema SM-FTN-I

Miscelazione dei solventi

Automatizzata, pH in linea, forza ionica e miscelazione di modificatori organici da solventi con with Auto•Blend Plus Technology

Formazione del gradiente

Miscelazione a bassa pressione, gradiente quaternario

Profili del gradiente

11 curve di gradiente incluse retta, curve a gradini (2), concave (4) e convesse (4)

Intervallo impostabile della velocità di flusso

Da 0,010 a 2,000 mL/min con incrementi pari a 0,001 mL (firmware 1.5x e versioni precedenti)

Da 0,010 a 2,200 mL/min con incrementi pari a 0,001 mL (versione del firmware 1.60)

Da 0,001 a 2,200 mL/min con incrementi pari a 0,001 mL (firmware v1.65 e versioni successive)

Valvola di controllo primaria

Valvola di Aspirazione Intelligente (i² Valve)

Pulsazione di pressione†

<1,0% o <25 psi, a seconda del maggiore dei due valori

Accuratezza del flusso†

±1,0% da 0,5 a 2,0 mL/min utilizzando 100% A

Precisione del flusso†

≤0,075% RSD o SD ±0,01 min, a seconda del maggiore dei due valori, in base a sei iniezioni ripetute (con valvola i² Valve)

Variazione della composizione† (rumore di fondo)

≤1,0 mAu

Accuratezza della composizione†

±0,5% assoluta (fondo scala) da 5% a 90%, da 0,5 a 2,0 mL/min (con valvola i² Valve)

Precisione della composizione†

≤0,15% RSD o SD ±0,02 min, a seconda del maggiore dei due valori, in base a sei iniezioni ripetute (con valvola i² Valve)

Compensazione della comprimibilità

Automatica e continua

Priming

Il priming bagnato può essere eseguito a velocità di flusso massime pari a 4 mL/min. Programmabile dal software della console UPLC

Lavaggio delle guarnizioni della pompa

Sistema di lavaggio in dotazione per eseguire il lavaggio della parte posteriore della guarnizione ad alta pressione e dello stantuffo, integrato e programmabile

Rampa del flusso

Intervallo: da 0,01 a 30,00 min per raggiungere una velocità di flusso pari a 2,0 mL/min

Predefinita: 0,45 min per raggiungere una velocità di flusso pari a 2,0 mL/min

Materiali primari a contatto con i liquidi

Acciaio inossidabile 316L, PPS, fluoropolimero, fluoroelastomero, miscela UHMWPE, zaffiro, rubino, zirconia, Nitronic 60, DLC, PEEK e miscela PEEK, lega di titanio

Intervallo del volume di iniezione

Da 0,1 a 10,0 µL come configurazionestandard.

Fino a 1000,0 µL con loop di prolungamento opzionale

Accuratezza

±0,2 µL, misura eseguita determinando il peso del liquido rimosso dal vial con iniezioni di 10,0 µL e media calcolata su 20 iniezioni utilizzando una siringa standard da 100,0 μL

Linearità†

≥0,999

Precisione†

≤0,25%, da 5 a 50 µL

Capacità massima campioni

Due qualsiasi tra le configurazioni seguenti:

• Piastre per microtitolazione a 96 e 384 pozzetti

• Piastre per vial da 2,00 mL a 48 posizioni

• Piastre per provette da microcentrifuga da 0,65 mL a 48 posizioni

• Piastre per provette da microcentrifuga da 1,50 mL a 24 posizioni

Intervallo di temperatura del vano campioni

Da 4,0 a 40,0 °C, impostabile con incrementi pari a 0,1 °C; mantiene 19 °C al di sotto della temperatura ambiente con un intervallo di tolleranza compreso tra -2 e +4 °C

Accuratezza della temperatura

±0,5 °C sul sensore

Stabilità della temperatura

±1,0 °C sul sensore

Tempo di riscaldamento del sistema di gestione campioni

≤30 min da temperatura ambiente a 40 °C

Tempo di raffreddamento del sistema di gestione campioni

≤60 min da temperatura ambiente a 4 °C

Lavaggio dell’ago di iniezione

Integrato, attivo, programmabile

Campione minimo richiesto

3 µL residui, utilizzando vial Waters a recupero totale da 2 mL (offset zero)

Carryover tra campioni

≤0,001% caffeina (UV)

≤0,001% sulfadimetossina (MS)

Funzioni avanzate del sistema di gestione campioni

Diluizione automatica e aggiunta automatica

Materiali primari a contatto con i liquidi

Acciaio inossidabile 316L, poliimmide, miscela PEEK, DLC, PPS